Treść książki

Przejdź do opcji czytnikaPrzejdź do nawigacjiPrzejdź do informacjiPrzejdź do stopki
Wprocesienatryskiwaniaplazmowegowystępujeniezależnyłukplazmowy
wewnętrzny,międzyelektrodąnietopliwą(wolframową)amiedzianądysząpla-
zmową,orazłukgłównyzależny.Łukniezależnypowstajewwynikuimpulsu
prądustałego,którypojawiasiępomiędzykatodąaanodą,jonizującgazplazmo-
wyidającpodstawędozajarzeniałukugłównego.Obałukiplazmowezasilanesą
zzewnętrznychźródełprądu,przyczymłukniezależnymożebyćwygaszonylub
wspomagaćwydajnośćnatryskiwania.Dyszaplazmowazawężałukplazmowy
orazpowodujezwiększeniejegotemperatury.Palnikjestzaopatrzonywdyszę
gazupomocniczego,którawprowadzasprężonepowietrze.Sprężonepowietrze
zawężastrumieńplazmy,jednocześnieprzyśpieszairozpylastopionecząsteczki,
copowoduje,żepowłokanatryskiwanamadużągęstość,wysokąwytrzymałość
obszarupołączeniazmateriałempodłoża.
Temperaturaplazmyjestregulowanawdużymzakresie,codajemożliwość
natryskiwaniadowolnegomateriałumetalicznegoiceramicznegobezutratytego
materiału(bezdysocjacjilubodparowania).Zdjęcieprocesunatryskiwaniapla-
zmowegoprzedstawiononarys.1.10.
Rys.1.10.Przebiegprocesunatryskiwaniaplazmowego[30]
Technologianatryskiwaniaplazmowegopozaszerokągamązaletposiada
ograniczenia,którymisąprzedewszystkimnadzwyczajwysokikoszturządzeń
donatryskiwaniaistosunkowoniewielkawydajność(do7kg/h,przymetalach
niskotopliwychdwukrotniewiększa).Teograniczeniajednocześniepowodu-
ją,żetechnologiataznajdujezastosowanietam,gdziekoniecznejestuzyskanie
warstwoszczególniewysokichwłaściwościach,przystosunkowoniewielkiejpo-
wierzchniigrubościnanoszonychpowłok.Typowymimateriałamistosowanymi
donatryskiwaniaplazmowegosączystemetale(Ti,Mo,W,Al,Ni,Cr),stopy
(Ni+Cr-Al,Co+Ni-Cr-B-Si,Fe+Cr-Mo-Ni),węgliki(Cr
7C
3,WC,W
2C,SiC,TiC),
26